La producción de una nueva generación de microprocesadores para PCs, laptops, servidores y otros dispositivos se ha iniciado oficialmente en la primera fábrica de 45 nanometros (nm) de alto volumen de producción de Intel Corporation en Chandler, Arizona.
La nueva instalación de 3,000 millones de dólares producirá procesadores con transistores Intel de 45nm de compuerta metálica High-k basados en Hafnio
La Llamada “Fab 32″, “es prueba de la inversión sostenida de Intel en nuestro activo más estratégico, la red de manufactura que cuida el ambiente más avanzada del mundo”, dijo Paul Otellini, presidente y director general de Intel.
Hay dos fábricas de 45 nm y 300 mm adicionales programadas para inaugurarse el año próximo en Kiryat Gat, Israel (Fab 28) y en Rio Rancho, Nuevo México (Fab 11x). El uso de obleas de 300 mm reduce el costo de producción por chip, al tiempo de disminuir el uso total de recursos.
Con 184.000 pies cuadrados de espacio destinado a una sala higiénica, la estructura terminada de Fab 32 mide 1 millón de pies cuadrados, tan grande que podrían caber más de 17 campos de fútbol dentro del edificio. Más de 1.000 empleados operarán la fábrica ocupando puestos como ingenieros de procesos, automatización y producción, además de técnicos senior de manufactura.
Asimismo, la compañía anunció que pretende buscar la certificación de la nueva fábrica como la primera fábrica oficial de la compañía “Leadership in Energy and Environmental Design” (LEED, Liderazgo en energía y diseño en pro del ambiente) basándose en nuevos criterios que se desarrollan para instalaciones de este tipo.
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